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供派瑞林鍍膜過程介紹

2022-08-04 鄭女士

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Parylene采用了一種獨(dú)特的化學(xué)氣相沉積工藝（CVD）。CVD工藝最早應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)的外延生長，整個過程是氣態(tài)反應(yīng)，又在真空條件下進(jìn)行，因而可以獲得非常均勻的涂層，達(dá)到其它方法難以實(shí)現(xiàn)的同形性。

派瑞林沉積過程過程主要有三步：

1. 真空130℃條件下固態(tài)派瑞林材料升華成氣態(tài)。

2. 真空680℃條件下，將氣態(tài)雙份子裂解成活性單體。

3. 真空常溫下，氣態(tài)單體在基體上生長聚合。

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