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蔡司X射線顯微鏡 VersaXRM系列

2025-04-22 09:00-2025-12-31 17:30 展會

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活動詳細

蔡司X射線顯微鏡 VersaXRM 系列成像產品秉持獨特的幾何加光學兩級放大設計理念。無需制作切片或破壞樣品，即可精準確定缺陷位置，分析缺陷形態，查找失效原因，進而提升產品質量。目前已經廣泛的應用在半導體和電子封裝、元件和器件的失效分析及工藝開發等研究領域。

核心技術優勢：
· 可達450nm 最高真實空間分辨率
· 實現1分鐘內三維成像的快掃模式
· 智能易用的全自動的系統控制軟件
· 基于AI的高級重構功能提升圖像質量或效率
· 大工作距離高分辨: 700nm@50mm，750nm@100mm

· HART 高縱橫比樣品優化掃描模式提升掃描效率可達 50%

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